供应商产品介绍 | 德国ANSEROS:臭氧发生器在半导体工业中的应用

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发布时间:2023-07-18
文章来源: 微信公众号
作者: Gloria
浏览量: 570

德国ANSEROS安索罗斯臭氧发生器非常适合运用在半导体,特别是晶圆清洗上。也能适用于污水处理、 饮用水处理 、工业水处理等多个领域。

近年来,在半导体工业中,对臭氧的应用越来越多。臭氧被广泛运用在晶圆清洗和电子元件清洗中。

德国ANSEROS安索罗斯公司研发的臭氧发生器MEGAGEN系列COM-VD,在半导体加工等方面发挥很大作用。


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/ Anseros 安索罗斯 /

ANSEROS公司是一家专业的臭氧应用技术开发和生产臭氧发生、检测相关产品的德国企业,主要产品有臭氧气相分析(浓度检测)仪、臭氧液相分析仪、臭氧发生器、橡胶臭氧老化机、臭氧化空气应用设备等。其臭氧分析仪和臭氧老化箱技术处于世界领先地位。

德国ANSEROS公司先进的技 术和质量过硬产品已经销往70多个国家。克劳斯。诺尔马赫教授获得2005年中国国家友谊奖。

(注:翁开尔上海公司为德国ANSEROS安索罗斯公司代理)

产品优势

ANSEROS安索罗斯臭氧发生器COM-VD系列是专门为获得高浓度臭氧而设计的。在低氧气消耗量的气相中,臭氧最高浓度可达到 300g O3/Nm3。

MEGAGEN系列臭氧发生器COM-VD可以与ANSEROS安索罗斯AOPR反应器配合使用,其质量转移效果非常好,可以将大量的臭氧转换成液相,从而达到强力去除COD的目的。

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臭氧发生器COM-VD系列 产品特点

·超高臭氧浓度

·低耗氧量

·低功耗

·相关反应性高

·低AOPR(高级氧化工艺)能耗

·不产生颗粒物

·质量保证

臭氧发生器COM-VD系列 产品应用

·研究与开发

·半导体加工

·超纯水处理、污水处理、饮用水处理、工业水处理

·水杀菌

·试验装置

·食品、药品生产

臭氧发生器在半导体晶圆清洗上的应用

晶圆清洗是目前半导体生产线上重要、严谨的工序之一。在很多的清洗工序中,只要有一道工序达不到要求,就会导致芯片报废和流程不顺畅。

传统的RCA清洗法需要大量的化学试剂,带来了成本的增加以及均匀性不一致的问题。而臭氧是一种具有较强氧化性的气体,把它溶解在超纯水中,喷洒在晶圆表面,可以将表面的有机污染物氧化为二氧化碳和水,非常容易就可以去除表面有机物,同时还会在晶圆表面形成一层致密的氧化膜。

因此,德国ANSEROS安索罗斯臭氧发生器非常适合运用在半导体,特别是晶圆清洗上。也能适用于污水处理、 饮用水处理 、工业水处理等多个领域。

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作为国内老牌检测仪器代理商,翁开尔(上海)公司致力于引进国外先进的检测技术以及产品。一直以来与德国臭氧老化设备生产企业:ANSEROS安索罗斯公司紧密合作,力求为行业客户提供完善的产品解决方案。

客户体验中心

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今年6月,翁开尔(上海)二楼客户体验中心全面升级、正式启用。

未来,这里将有望承办开展各项行业内专题研讨会、展会等,并迎接海外供应商的莅临。充分展现翁开尔公司作为世界知名化工原料 & 检测仪器代理商的品牌形象,进一步彰显翁开尔的品牌价值。

翁开尔上海公司 竭诚欢迎您的来访!

如您有任何需要,欢迎来电:400-800-0526,与我们取得联系。

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翁开尔公司创立于1925年,我们在实验室检测、水性化工方面拥有丰富的经验。

我们把世界优秀的仪器设备、化工原材料介绍到中国,把专业的服务提供给用户。

我们致力于成为行业的专家,以满足客户多方位的要求。

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